Как же нам выгнать шорты из сектора. Правильно, надо начать выкатывать новинки.
Новая метрологическая система eBeam, представленная компанией Applied Materials, важна, поскольку она позволяет производителям микросхем измерять критические размеры элементов полупроводниковых устройств, созданных с помощью EUV и появляющейся литографии EUV с высокой числовой апертурой.
Уникальное сочетание низкой энергии приземления, высокого разрешения и более высокой скорости формирования изображения помогает проложить путь к транзисторам с высокой числовой апертурой EUV, Gate-All-Around и 3D NAND высокой плотности.
Он обеспечивает улучшенный контроль над процессами литографии и травления EUV и High-NA EUV, помогая производителям микросхем ускорить разработку процессов и максимизировать производительность при крупносерийном производстве.
А кто сомневается смотрит отчетность.
UM v3.01 Деньги на диване, и нейронные сети совсем чуть чуть …